Ushio es una empresa que domina la habilidad de manipular la luz y ayuda a descifrar el código para chips de computadoras de próxima generación.
Gracias a esto, la compañía anunció en julio que había logrado un hito clave, perfeccionando las potentes luces ultra precisas, necesarias para probar diseños de chips basados en la litografía ultravioleta extrema o EUV, el proceso a través del cual se realizará la próxima generación de semiconductores.
Con esto, la firma japonesa se convirtió en jugador importante en la fabricación de chips para el futuro.
‘La infraestructura ahora está casi lista’, dijo el director ejecutivo Koji Naito en una entrevista. ‘Probar el equipo fue una de las cosas que detuvo el EUV. Con esta pieza en su lugar, la eficiencia de producción y los rendimientos puede aumentar’.
La compañía, con sede en Tokio, desarrolló una fuente de luz para el equipo utilizado para probar lo que se conoce como máscaras: cuadrados de vidrio ligeramente más grandes que una caja de CD que actúan como una plantilla para diseños de chips.
Estas plantillas tienen que ser absolutamente perfectas, ya que incluso un pequeño defecto en una de ellas puede inutilizar cada chip de un lote grande.
Ahí es donde entra Ushio. Su tecnología utiliza láseres para vaporizar estaño líquido en plasma y producir luz más cercana en longitud de onda a los rayos X que el espectro visible para el ojo humano.
Esa luz ayuda a los fabricantes de chips a detectar posibles defectos en el producto.
El proceso requiere de una máquina del tamaño de una habitación que se parece a un rayo de la muerte de ciencia ficción y requiere un equipo de personas para operar.
Después de 15 años en desarrollo, el negocio de EUV comenzará a contribuir a las ganancias del próximo año fiscal, dijo Koji Naito sin dar más detalles.
El cambio a EUV es la culminación de una tendencia de décadas. El impulso de geometrías más pequeñas que comenzó cuando los circuitos integrados reemplazaron los tubos de vacío en la década de 1970, se está acercando a sus etapas finales, y el número de empresas que pueden competir en este espacio se ha reducido a un puñado.
Solo Intel, Samsung y Taiwan Semiconductor Manufacturing, tienen planes para usar EUV para hacer más pequeños los procesos de 7 nanómetros que son la vanguardia actual del diseño de CPU.
Los tres utilizarán máquinas de litografía ASML Holding NV, y para algunos proveedores especializados como Ushio, eso significa la oportunidad de tener una participación del 100% de sus respectivos mercados.
‘Para las empresas japonesas con una fuerte tecnología de fabricación heredada, el mayor peligro es estar atrapado en ellas’, dijo Damian Thong, Analista de Macquarie Group. ‘Deben dar crédito a Ushio para avanzar más lejos, más allá de la fabricación, hacia algo que requiera más integración del sistema’.
