Huawei, junto con una empresa asociada en la fabricación de chips en China, presentó patentes para una tecnología innovadora y potencialmente efectiva para la fabricación de semiconductores avanzados.
Estas empresas están desarrollando tecnologías que implican patrones cuádruples autoalineados (SAQP, por sus siglas en inglés), lo que podría reducir su dependencia de la litografía de alta gama, según las solicitudes de patente presentadas ante la autoridad de propiedad intelectual de China.
Esto podría permitirles producir chips avanzados sin la necesidad de utilizar el equipo de litografía de última generación de ASML Holding. Esta compañía, con sede en los Países Bajos y único proveedor de máquinas EUV, no puede venderlas en China debido a los controles de exportación.
El patrón cuádruple es una técnica para grabar líneas en obleas de silicio varias veces para aumentar la densidad del tránsito y, por lo tanto, el rendimiento.
La solicitud de patente de Huawei, publicada el viernes, describe un método que utiliza esta tecnología para fabricar semiconductores más sofisticados.
‘La adopción de esta patente aumentará la libertad de diseño de patrones de circuitos’, indica la presentación ante la Administración Nacional de Propiedad Intelectual de China.
Este año, Beijing ha brindado su total respaldo a los principales proveedores de equipos de fabricación de chips en el país. Este mes, el primer ministro Li Qiang visitó las oficinas de Naura Technology en una gira personal, ampliamente publicitada, que se interpreta como una señal de apoyo del gobierno central.
